用离子束溅射淀积的氧化物薄膜的折射率

被引：11

作者：

顾培夫

李海峰

章岳光

刘旭

唐晋发

机构：

[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州,杭州,杭州,杭州,杭州

来源：

关键词：

离子束溅射; 氧化物薄膜; 折射率;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

介绍了用于波长为 15 5 0nm光通讯波分复用 /解复用滤光片的离子束溅射的Ta2 O5和SiO2 薄膜在法里珀罗多层膜中的折射率的实时拟合方法及拟合结果 ,给出了它们的淀积时间、淀积速率和计算的光学厚度 ,分析了这些结果的可靠性

引用

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