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集成电路技术的发展
被引:3
作者
:
陈飚
论文数:
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引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国电子科技集团公司第二十研究所
陈飚
机构
:
[1]
中国电子科技集团公司第二十研究所
来源
:
微处理机
|
2011年
/ 32卷
/ 03期
关键词
:
微电子学;
集成电路;
摩尔定律;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN405 [制造工艺];
学科分类号
:
摘要
:
回顾了集成电路技术的发展历史,展望了集成电路未来的发展趋势。在微电子技术诞生和发展过程中具有一些里程碑式的发明,如:晶体管、集成电路、集成电路平面工艺、MOS器件、微处理器、光刻技术、铜互连工艺的发明等。集成电路技术一直并将继续以特征尺寸缩小、集成度提高的模式,按摩尔定律预测的指数增长率发展。随着器件特征尺寸逐渐缩小并逼近其物理极限,集成电路技术的发展将受到来自于材料、工艺和物理基础等方面的挑战,呈现出多维发展的趋势,这些挑战涉及了微电子学的理论基础。
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页数:6
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