共 1 条
CVD金刚石薄膜及膜-基界面形态
被引：8
作者：
匡同春
刘正义
周克崧
王德政
代明江
不详
机构：
[1] 华南理工大学机电系!广州，
[2] 广州有色金属研究院!广州，
来源：
关键词：
CVD金刚石薄膜;
界面;
结合性能;
形态;
D O I：
暂无
中图分类号：
O484 [薄膜物理学];
学科分类号：
080501 ;
1406 ;
摘要：
采用直流等离子体财流CVD法在硬质合金基体上沉积了多晶金刚石薄膜，借助XRD、Raman光谱、SEM和EPMA等对金刚石薄膜及膜-基界面的结构、形貌和成分进行了研究.结果表明，结晶度高的刻面型金刚石薄膜质量、纯度较好，膜-基界面处较致密，机械锚固作用明显，结合性能较好沉积前后基体表面形貌变化很大，存在数十微米厚的脱钴-等离子体刻蚀层，等离子体刻蚀导致脱钻表面更加凹凸不平，为金刚石形核提供了有利条件.
引用
收藏
页码：305 / 312
页数：8
相关论文