纳米压印技术的最新进展

被引：9

作者：

王金合 ^{[1
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费立诚 ^{[1
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宋志棠 ^{[2
]}

张静 ^{[1
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周为民 ^{[1
]}

张剑平 ^{[1
]}

机构：

[1] 上海市纳米科技与产业发展促进中心纳米加工技术实验室

[2] 中国科学院上海微系统与信息技术研究所纳米技术研究室

来源：

微纳电子技术 | 2010年 / 47卷 / 12期

关键词：

纳米压印技术; 大面积滚轴压印; 聚合物探针阵列; 光伏电池; 交叉电极阵列;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305 [半导体器件制造工艺及设备];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

总结了纳米压印技术的最新进展,其中包括压印工艺、图形赋形方法以及纳米压印技术应用三方面最新的研究成果。在压印工艺的发展方面,大面积滚轴压印的发明最具有产业化意义,它不仅解决了常规平板压印很难大面积压印成型的困难,而且整个过程是一种柔性压印过程,降低了成本,提高了压印效率,但是最小特征尺寸还有待提高;在图形赋形方法的改进中,聚合物探针阵列技术集微米和纳米成型技术于一身,压印效率高,应用前景广阔;在压印技术应用的发展中,光伏电池、电子存储设备以及传感器等为纳米压印技术的应用提供了新的领域。

引用

页码：722 / 730

页数：9

共 6 条

[1] 纳米压印光刻技术及其发展现状 [J].

李洪珠 .

电子与封装, 2005, (12) :1-5

[2] 下一代实用光刻技术——纳米压印技术 [J].

刘彦伯 ;

顾长庚 ;

乌建中 ;

朱兆颖 .

机电一体化, 2005, (06) :14-19

[3] Large area nanosize array stamp for UV-based nanoimprint lithography fabricated by size reduction process [J].

Li, Xiaoli ;

Wang, Qingkang ;

Zhang, Jing ;

Zhou, Weimin ;

Liu, Yanbo ;

Wan, Yongzhong ;

Niu, Xiaoming .

MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2009, 86 (10) :2015-2019

[4]

Fast thermal nanoimprint lithography by a stamp with integrated heater[J] . Massimo Tormen,Radu Malureanu,Rasmus Haugstrup Pedersen,Lasse Lorenzen,Kristian Hagsted Rasmussen,Christopher James Lüscher,Anders Kristensen,Ole Hansen.Microelectronic Engineering . 2008 (5)

[5]

Catalytic CO oxidation reaction studies on lithographically fabricated platinum nanowire arrays with different oxide supports[J] . A. M. Contreras,X.-M. Yan,S. Kwon,J. Bokor,G. A. Somorjai.Catalysis Letters . 2006 (1)

[6]

Nanoimprint lithography based fabrication of shape-specific, enzymatically-triggered smart nanoparticles. Glangchai LC,Caldorera-Moore M,Shi L,Roy K. Journal of Controlled Release . 2008

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