21世纪微电子光刻技术

被引：4

作者：

姚汉民

刘业异

机构：

[1] 中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

[2] 中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都

[3] 四川成都

来源：

关键词：

准分子激光投影光刻; x射线光刻; 极紫外光刻; 电子束投影光刻; 离子束投影光刻;

D O I：

10.13290/j.cnki.bdtjs.2001.10.014

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

介绍了２４８ｎｍ，１９３ｎｍ，１５７ｎｍ准分子激光投影光刻的发展过程和下一代光刻技术（ＮＧＬ）的实用化前景

引用

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