学术探索
学术期刊
新闻热点
数据分析
智能评审
立即登录
半导体材料产业的发展现状
被引:2
作者
:
徐远林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
峨嵋半导体材料厂
徐远林
机构
:
[1]
峨嵋半导体材料厂
来源
:
中国金属通报
|
2003年
/ 34期
关键词
:
半导体材料;
GaN;
电工材料;
产业;
单晶;
晶形;
化合物半导体;
硅衬底;
GaAs;
晶片;
半绝缘;
磷化;
磷酸盐处理;
亚洲;
地区;
多晶硅;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
F416.63 [电子工业];
学科分类号
:
摘要
:
<正> 3.2 砷化镓材料用于大量生产砷化镓晶体的方法是传统的LEC法(液封直拉法)和HB法(水平舟生产法)。国外开发了兼具以上2种方法优点的VGF法(垂直梯度凝固法)、VB法(垂直布里支曼法)和VCZ法(蒸气压控制直拉法),成功制备出4~6英寸大直径GaAs单晶。
引用
收藏
页码:2 / 5
页数:4
相关论文
未找到相关数据
未找到相关数据