镁合金微弧氧化过程中不同电压下获得膜层的性能研究

被引：23

作者：

王燕华

王佳

张际标

机构：

[1] 中国科学院海洋研究所

[2] 中国海洋大学

[3] 中国科学院海洋研究所青岛

[4] 中国科学院研究生院北京

[5] 青岛

[6] 金属腐蚀与防护国家重点实验室沈阳

来源：

中国腐蚀与防护学报 | 2005年 / 05期

关键词：

微弧氧化; 镁合金; 电压; 性能; 阻抗;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174.4 [金属表面防护技术];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

采用扫描电镜、电化学阻抗方法,研究了镁合金AZ91D微弧氧化过程中不同电压下获得氧化膜的性能.结果表明,随着氧化电压的升高,可以获得三种不同性能的氧化膜:钝化膜、微火花氧化膜和弧光氧化膜.钝化膜很薄,厚度不足1μm,膜层的阻抗随着氧化电压升高略有增加,仍属于钝化膜性质;微火花放电后期得到的膜层较厚,厚度可达30μm,表面均匀、结构致密,具有最高的阻抗,可以达到8×107Ω;弧光放电阶段氧化膜最厚,但结构疏松、易碎,阻抗逐渐降低至1×107Ω.结果还指出,硅酸盐体系中微火花放电阶段后期形成的膜层具有最佳的性能;而且膜层的阻抗主要由氧化膜的有效厚度决定,与总厚度关系不大.

引用

页码：267 / 270

页数：4

共 8 条

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