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离子束辅助淀积低温微光学元件红外宽带增透膜
被引:7
作者
:
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
黄伟
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
张云洞
机构
:
[1]
中国科学院光电技术研究所
来源
:
光学技术
|
1998年
/ 03期
关键词
:
离子束辅助淀积,增透膜,镀膜技术;
D O I
:
10.13741/j.cnki.11-1879/o4.1998.03.037
中图分类号
:
TN305.8,O484.4 [];
学科分类号
:
1401 ;
摘要
:
简要叙述了锗基片微光学元件红外宽带减反膜的设计与制作。着重介绍了离子束辅助淀积制备该膜系的过程,给出了用该方法制作8~12μm波段的减反膜的测试曲线,它具有峰值透过率高,在设计波长范围内的平均透过率大于97%以上,膜层附着好,可以切割和擦洗,可以在室温和100K低温下反复循环使用。
引用
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页码:95 / 97
页数:3
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共 1 条
[1]
应用薄膜光学.[M].唐晋发;郑权 编著.上海科学技术出版社.1984,
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