RTP晶体的调Q特性研究

被引：13

作者：

刘晓峰 ^{[1
]}

高彦伟 ^{[1
]}

黄永宗 ^{[2
]}

孙年春 ^{[1
]}

机构：

[1] 四川大学电子信息学院

[2] 成都莱普科技有限公司

来源：

光学与光电技术 | 2008年 / 01期

关键词：

RTP晶体; 电光调Q晶体; 双折射补偿; Q开关; 温度调节;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN248 [激光器];

学科分类号：

0803 ; 080401 ; 080901 ;

摘要：

介绍了一种适用于在高重复频率调Q工作的RbTiOPO4（RTP）电光晶体。通过分析温度变化对RTP晶体透过率的影响,得出通过极精确地控制RTP晶体温度变化范围来补偿晶体的自然双折射是不实用的,而必须用两块相同的正交放置的RTP晶体Q开关,才能补偿晶体的自然双折射,保证Q开关的稳定性。用两块相同的正交放置的RTP晶体Q开关进行了不同频率的电光调Q实验,实验结果说明了RTP晶体作为电光Q开关在高重频工作的潜力。

引用

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