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波长色散X射线荧光分析的新发展
被引:2
作者
:
Shimadzu Hong Kong Ltd Beijing Office Shimadzu Hong Kong Ltd Beijing Office Beijing China
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
北京岛津科学仪器中心
Shimadzu Hong Kong Ltd Beijing Office Shimadzu Hong Kong Ltd Beijing Office Beijing China
[
100020
]
机构
:
[1]
北京岛津科学仪器中心
来源
:
岩矿测试
|
2003年
/ 04期
关键词
:
波长色散X射线荧光分析;
微区面分布的元素成像分析;
高级次谱线分析方法;
薄膜分析;
无标样;
D O I
:
10.15898/j.cnki.11-2131/td.2003.04.015
中图分类号
:
O434.1 [X射线];
学科分类号
:
摘要
:
除了继续发展波长色散X射线荧光分析装置在主、次量元素分析上高精度、高稳定性的固有特点之外,进一步提高灵敏度,使分析范围扩展到痕量分析;开拓微区面分布的元素成像分析;进一步对传统分析困难的轻元素和中、重金属元素的探讨,开发新的高级次谱线分析方法;适应新材料特别是纳米材料的分析要求,对薄膜分析的开拓等方面,已经有了长足的发展。在介绍商品化的分析装置方面的发展状况的同时,对无标样分析的基本参数法目前发展状况也做了介绍。
引用
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页码:311 / 314
页数:4
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