波长色散X射线荧光分析的新发展

被引:2
作者
Shimadzu Hong Kong Ltd Beijing Office Shimadzu Hong Kong Ltd Beijing Office Beijing China [100020 ]
机构
[1] 北京岛津科学仪器中心
关键词
波长色散X射线荧光分析; 微区面分布的元素成像分析; 高级次谱线分析方法; 薄膜分析; 无标样;
D O I
10.15898/j.cnki.11-2131/td.2003.04.015
中图分类号
O434.1 [X射线];
学科分类号
摘要
除了继续发展波长色散X射线荧光分析装置在主、次量元素分析上高精度、高稳定性的固有特点之外,进一步提高灵敏度,使分析范围扩展到痕量分析;开拓微区面分布的元素成像分析;进一步对传统分析困难的轻元素和中、重金属元素的探讨,开发新的高级次谱线分析方法;适应新材料特别是纳米材料的分析要求,对薄膜分析的开拓等方面,已经有了长足的发展。在介绍商品化的分析装置方面的发展状况的同时,对无标样分析的基本参数法目前发展状况也做了介绍。
引用
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