右旋邻氯扁桃酸分子印迹聚合物的制备及结合特性研究

被引：19

作者：

李萍

戎非

朱馨乐

胡濬喆

袁春伟

机构：

[1] 东南大学生物医学工程系吴健雄实验室

来源：

高分子学报 | 2003年 / 05期

关键词：

右旋邻氯扁桃酸; 分子印迹聚合物; 配合物模拟; Scatchard分析;

D O I：

暂无

中图分类号：

O631 [高分子物理和高分子物理化学];

学科分类号：

摘要：

以右旋邻氯扁桃酸为模板分子合成了具有高选择性的分子印迹聚合物作为手性分离材料 .紫外光谱研究说明在聚合开始之前模板分子与功能单体形成了配合物 ,并用Hyperchem软件模拟其分子结构 ,结合能分别为 -1 643 7× 1 0 4 J·mol- 1 和 -4 2 799× 1 0 4 J·mol- 1 .分子印迹聚合物对模板分子的结合量高于其它类似物 ,手性分离因子α达 1 76.Scatchard分析表明分子印迹聚合物在识别右旋邻氯扁桃酸分子过程中存在两类结合位点 ,与配合物模拟结构数目一致

引用

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