未找到相关数据
激光直接写入工艺的研究
被引：19
作者：
李凤友
卢振武
张殿文
李红军
赵晶丽
丛小杰
翁志成
机构：
[1] 中科院长春光机所应用光学国家重点实验室,中科院长春光机所应用光学国家重点实验室,中科院长春光机所应用光学国家重点实验室,中科院长春光机所应用光学国家重点实验室,中科院长春光机所十七实验室!吉林长春,中科院长春光机所应用光学国家重点实验室,中科院长春光机所应
来源：
关键词：
激光直接写入;
离焦;
光刻;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN249 [激光的应用];
学科分类号：
080904 [电磁场与微波技术];
摘要：
本文介绍了四轴激光直接写入系统 ,对激光直接在光刻胶上写入图形的工艺进行了研究 ,讨论了在不同离焦情况下 ,胶层内光斑的大小和强度分布 ,采用离焦的方法在光刻胶上刻画了周期为 2 0μm的线光栅和线宽为 10 μm的分划板 ,对实验结果进行了分析
引用
收藏
页码：949 / 952
页数：4
相关论文