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高温超导薄膜的一种混刻技术
被引：6
作者：
康琳，郑延斌，孙志坚，吉争鸣
机构：
[1] 南京大学
来源：
关键词：
高温超导薄膜;
刻蚀;
蚀刻;
水蚀;
超导性能;
清洗液;
去离子水;
离子交换水;
乙二胺四乙酸;
腐蚀液;
钻蚀;
光刻技术;
腐蚀速率;
桥区;
腐蚀剂;
D O I：
暂无
中图分类号：
O511 [超导电性];
学科分类号：
070205 ;
080705 ;
摘要：
本文介绍了一种高温超导薄膜表面图形成型的化学湿法刻蚀技术，实验采用饱和乙二胺四乙酸（ＥＤＴＡ）、３％Ｈ３ＰＯ４和饱和ＮＨ４Ｃｌ三种溶液作为腐蚀液，分别对几组ＹＢＣＯ膜样品进行刻蚀，实验中井向腐蚀液和清洗液（去离子水）中通入干燥Ｎ２气．文中给出了测试数据，分析比较了样品刻蚀前后的Ｔｃ，摸索出一种在小尺寸微桥的光刻中对样品超导性能影响最小的化学湿刻技术．
引用
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