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邻菲啰啉-HO-CTMAB-Cu（Ⅱ）化学发光体系的研究及其应用
被引：16
作者：
陈国南
张帆
陈肇明
庄秀清
机构：
[1] 福州大学化学系
[2] 福州大学化学系 福州
[3] 福州
来源：
关键词：
化学发光反应;
发光体;
敏化作用;
CTMAB;
阳离子型表面活性剂;
邻菲啰啉;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
本文用改进的单纯形优化法研究了邻菲啰啉-H2O2-CTMAB-Cu（Ⅱ）化学发光体系的最佳反应条件,较为详细地研究了该化学发光反应的机理,较为合理地解释了表面活性剂在该体系中的作用。同时选择适当的掩蔽剂,大大提高了反应的选择性。据此拟定了新的化学发光测定痕量铜的方法,经试用于天然水的分析获得较为满意的结果。本法的检测限达0.09ppb,水样测试的精密度良好,回收率91.4-108.0%,与石墨炉原子吸收法测定的结果甚为一致。
引用
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页码：139 / 144
页数：6
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