共 1 条
移相式点衍射干涉仪的几个关键技术
被引:10
作者:
刘景峰
李艳秋
刘克
机构:
[1] 中国科学院电工研究所
来源:
关键词:
极紫外光刻;
波像差;
移相式点衍射干涉仪;
D O I:
10.19650/j.cnki.cjsi.2007.s1.051
中图分类号:
TH744.3 [];
学科分类号:
0803 ;
摘要:
极紫外光刻技术作为下一代光刻技术的最佳候选技术,为了得到衍射极限的分辨率,光学系统的RMS波像差应小于其工作波长的1/14,约为1 nm,这对检测技术提出了前所未有的要求。本文以应用于极紫外光刻光学系统波像差检测中的移相式点衍射干涉仪为基础,对干涉仪中几个关键技术进行了讨论,并给出了相应的解决方法。
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页码:179 / 182
页数:4
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