共 3 条
[3]
关于光学玻璃抛光过程的认识.[M].邬烈恭著;.国防工业出版社.1979,
ZK、ZF、ZBaF、LaK光学玻璃的腐蚀与防护
被引：4
作者：
侯瑞祥，阮兆龄
机构：
[1] 江南光电（集团）股份有限公司
来源：
关键词：
光学玻璃加工；抛光；腐蚀；添加剂；pH值调节剂；稳定剂;
D O I：
10.13741/j.cnki.11-1879/o4.1999.03.014
中图分类号：
TQ171.734 [];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
ＺＫ、ＺＦ、ＺＢａＦ、ＬａＫ等光学玻璃在抛光过程中及抛光下盘以后的腐蚀问题，长期以来一直影响着这些光学玻璃零件的加工质量和生产效率。通过对光学玻璃在抛光过程中稳定性课题的研究和生产实验，研制并筛选出比较理想的光学玻璃抛光添加剂；即在这些化学稳定性差的光学玻璃抛光液中，添加适当的ｐＨ值调节剂及表面稳定剂，减少了ＺＫ、ＺＦ、ＺＢａＦ、ＬａＫ等系列化学稳定性差的光学玻璃在抛光过程中的腐蚀问题，显著提高了抛光表面质量和合格率，并进一步提高了光学玻璃零件加工的效率和效益及其工艺技术水平
引用
收藏
页码：3 / 5
页数：4
相关论文