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硅酸钠法合成高比表面多孔二氧化硅
被引：16
作者：
刘忠义
王莉玮
王子忱
赵敬哲
杨桦
赵慕愚
赵冬梅
机构：
[1] 黑龙江大学化学系
[2] 吉林大学化学系
[3] 秦皇岛药品检验所
来源：
关键词：
二氧化硅，高比表面，多孔，合成;
D O I：
暂无
中图分类号：
O613.72 [硅Si];
学科分类号：
070301 ;
081704 ;
摘要：
以硅酸钠和盐酸为原料，用化学沉淀法制备高比表面多孔ＳｉＯ２，并对其性能进行了研究．结果表明，所合成的ＳｉＯ２比表面积可达１３００ｍ２／ｇ以上，具有蜂窝状的微孔，孔径均匀，而且性能稳定．
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页数：4
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