不同衬底上的ZnO薄膜紫外光致发光

被引:47
作者
张德恒
王卿璞
薛忠营
机构
[1] 山东大学物理与微电子学院
[2] 山东大学物理与微电子学院 济南
[3] 济南
关键词
ZnO薄膜; 射频磁控溅射; 紫外发光; 退火;
D O I
暂无
中图分类号
O484.41 [];
学科分类号
0803 ;
摘要
用射频磁控溅射法在蓝宝石、硅和石英衬底上沉积出具有好的择优取向的多晶ZnO薄膜 .在 2 70nm波长的光激发下室温下可观察到显著的紫外光发射 (波长为 3 5 6nm)和较弱的蓝光发射 (波长为 44 6nm) .经高温退火后薄膜的结晶质量显著提高 ,在蓝宝石、石英衬底上沉积的薄膜 ,其积分发光强度分别增加了 7倍和 14倍 .而硅衬底上的膜发光强度增强不太显著 .紫外光发射源于电子的带间跃迁 ,而蓝光发射是由电子从氧空位浅施主能级到价带顶的跃迁引起的
引用
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页码:1484 / 1487
页数:4
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共 1 条
[1]  
Tang Z K,Wang G K L,Yu P, et al. Applied Physics Letters . 1998