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工业催化[M]. 化学工业出版社 , 王文兴 编著, 1978
再生气氛对CuO/AC脱硫活性的影响
被引：8
作者：
刘振宇
牛宏贤
朱珍平
刘守军
机构：
[1] 中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室!太原
[2] 太原理工大学化工学院
来源：
基金：
国家自然科学基金重点项目;
关键词：
CuO/AC脱硫剂;
H2还原;
NH3还原;
XRD;
XPS;
D O I：
暂无
中图分类号：
X51 [大气污染及其防治];
学科分类号：
0706 ;
070602 ;
摘要：
本文考察了不同气氛再生后CuO/AC脱硫剂的二次脱硫活性,并藉借助XRD和XPS表征技术以及对再生后脱硫剂残硫的分析,探讨了脱硫剂以不同还原剂在不同温度下再生后二次脱硫活性差异的内在原因.结果表明:脱硫剂经H2再生后二次脱硫活性与初活性相比出现大幅度下降,H2气氛中添加H2O可提高其二次脱硫活性;经NH3在300℃再生后二次脱硫活性与初活性相当,两次再生后仍未观察到活性的明显下降,NH3再生时脱硫活性的改善并非由于脱硫剂表面碱性含氮官能团=NH,-NH2和NH3浓度的增加,而应归因于还原性较弱的NH3未将CuSO4还原为单质Cu,活性组分铜物种在AC表面未发生明显的聚集.
引用
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页码：313 / 319
页数：7
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