实时灰阶掩膜技术制作微透镜列阵

被引:5
作者
彭钦军
郭永康
曾阳素
刘世杰
陈波
肖啸
机构
[1] 四川大学物理系信息光学研究中心
[2] 四川大学物理系信息光学研究中心 四川成都
[3] 四川成都
关键词
物理光学; 实时灰阶掩膜; 液晶显示; 微透镜列阵; 光刻;
D O I
暂无
中图分类号
O439 [应用光学];
学科分类号
070207 ; 0803 ;
摘要
提出一种制作连续微结构的实时灰阶掩膜技术 ,它将液晶显示 (LCD)系统和投影光刻系统相结合 ,利用液晶显示系统实时显示一系列二值图形来获得连续的灰度记录 ,给出了原理分析。基于部分相干光成像理论 ,进行了微透镜制作的计算机模拟。建立了实验装置 ,并采用全色卤化银明胶 (Kodak131)通过酶刻蚀得到半径为 5 9 33μm ,深为 1 6 38μm的 5 6× 4 8微透镜列阵
引用
收藏
页码:893 / 896
页数:4
相关论文
共 9 条
[1]  
Experiments for 3-D structuring of thick resists by gray tone lithography. N. Dumbravescu. Journal of Materials Science . 2000
[2]  
Programmable color liquid-crystal television spatial light modulator: transmittance properties and application to speckle-correlation displacement measurement. J. Aiken,B. Bates. Applied Optics . 2000
[3]  
Fabrication of semi-continuous profile diffractive optical elements for beam shaping by electron beam lithography. A. Nottola,A. Gerardino,M. Gentili et al. Microeletron . Eng . 2000
[4]  
Optimized spatial frequency response in silver halide sensitized gelatin. A. Fimia,I. Pascual,A. Belendez. Applied Optics . 1992
[5]  
Onthediffractiontheoryofopticalimages. H .H .Hopkins. Proc.Roy.Soc:A . 1953
[6]  
ElectronicDisplay[M]. B .M .Tian. . 2001
[7]  
Polymers for UV and near-IR irradiation. T. Lippert,C. David,M. Hauer et al. Journal of Photochemistry and Photobiology A Chemistry . 2001
[8]  
E-Beam lithography: an efficient tool for the fabrication of diffractive and micro optical elements. Kley,E,Schnabel,B,Zeitner,U. Proceedings of SPIE the International Society for Optical Engineering . 1997
[9]  
Fabrication of microlens in photosensitive hybrid sol-gel films using a gray scale mask. H. J. Jiang,X. C. Yuan,Z. S. Yun et al. Materials Science and Engineering . 2001