磁控反应溅射TaN薄膜的结构和性能

被引：7

作者：

许俊华

李戈扬

顾明元

金燕萍

辛挺辉

机构：

[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海

来源：

功能材料 | 2000年 / 03期

关键词：

磁控溅射; TaN镀层; 氮分压; 微结构; 机械性能;

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ13 [金属元素的无机化合物化学工业];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

采用磁控溅射仪制备了TaN薄膜 ,研究了不同氮分压条件下TaN薄膜的成份、结构和力学性能。结果表明 ,氮分压在 0 .2× 10 -1Pa时镀层由两相混合物正方结构的 β -Ta和面心立方结构的δ -TaN组成。而氮分压在 0 .4× 10 -1～ 0 .8×10 -1Pa时 ,得到单相六方TaN结构。随着氮分压的增加硬度呈下降趋势 ,在氮分压为 0 .2× 10 -1Pa时出现最高硬度 ,分析认为这与薄膜中存在的两相组织和高的压应力有关。

引用

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