Ni-SiO2复合镀工艺研究

被引：12

作者：

李卫东

胡卫华

吴慧敏

李迎春

左正忠

周运鸿

刘仁志

杨磊

机构：

[1] 武汉大学化学系,武汉大学化学系,武汉大学化学系,武汉大学化学系,武汉大学化学系,武汉大学化学系,武汉风帆电镀技术有限公司,武汉风帆电镀技术有限公司湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉

来源：

材料保护 | 2003年 / 05期

关键词：

电沉积; 复合镀层; SiO2微粒;

D O I：

10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2003.05.009

中图分类号：

TQ153.2 [合金的电镀];

学科分类号：

082804 [农业电气化与自动化];

摘要：

研究了Watts型镀镍液中SiO2微粒在镀层中的含量与阴极电流密度的关系,以及镀液的pH值、搅拌速度、电流密度、微粒悬浮量、添加剂等工艺条件和参数对Ni-SiO2复合镀层的影响,确定了其最佳镀液组成和工艺参数;SEM能量色散检测表明,制备的镀层中SiO2质量含量在10％～20％。镀层的外现均匀、细致,并有金属光泽。

引用

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共 5 条

[1]

铝合金Ni-P-Al2O3复合镀前处理工艺和耐蚀耐磨损性能的研究 [J].