高非线性光子晶体光纤中布拉格光栅的制作

被引：10

作者：

桑新柱 ^{[1
]}

余重秀 ^{[1
]}

王葵如 ^{[1
]}

MKIslam ^{[2
]}

吕乃光 ^{[3
]}

机构：

[1] 北京邮电大学电子工程学院

[2] 香港城市大学光电子科技研究中心

[3] 北京机械工业学院电子信息工程系

来源：

光学精密工程 | 2005年 / 06期

关键词：

光子晶体光纤; 布拉格光栅; 非线性;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN253 [光纤元件];

学科分类号：

0702 ; 070207 ;

摘要：

采用相位掩模版法实验研究了高非线性掺锗光子晶体光纤中布拉格光栅的制作。实验中采用的光子晶体光纤的非线性系数约为12 W-1km-1,模场直径约为2.4 mm。分析了布拉格光栅的反射率随着曝光脉冲数的变化,随着曝光脉冲数的增加其反射率逐渐达到饱和,继续增加曝光量发射率开始下降。实验验证了可以在高非线性光子晶体中写入布拉格光栅,得到光栅的反射率为44.4%,这对于研究光纤布拉格光栅的非线性效应和应用具有重要意义。讨论了影响布拉格光栅写入效率的因素。

引用

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