软刻蚀——图形转移和微制造新工艺

被引:14
作者
潘力佳
何平笙
机构
[1] 中国科学技术大学高分子科学与工程系!安徽合肥
关键词
软刻蚀; 微接触印刷; 微模塑; 转移微模塑; 毛细微模塑; 溶剂辅助的微模塑; 近场光刻蚀;
D O I
暂无
中图分类号
TN305·7 [];
学科分类号
摘要
:“软刻蚀”是相对于微制造领域中占据主导地位的刻蚀而言的微图形转移和微制造的新方法 ,总的思路就是把用昂贵设备生成的微图形通过中间介质进行简便而又精确的复制 ,提高微制作的效率 ,包括微接触印刷 ,毛细微模塑 ,溶剂辅助的微模塑 ,转移微模塑 ,微模塑 ,近场光刻蚀等。这些方法工艺简单 ,对实验室条件要求不高 ,又能在曲面上进行操作 ,甚至可制备三维的立体图形
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共 1 条
[1]  
Using soft lithography to fabricate GaAs/AlGaAs heterostructure field effect transistors〔J〕, Appl. Hu J. M, Beck RG, Deng T, et al. Physics Letters . 1997