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离子束溅射沉积羟基磷灰石涂层钛种植体材料的制备和表征
被引：5
作者：
王昌祥
陈治清
邱静
管利民
刘仲阳
王培录
郑思孝
廖小东
机构：
[1] 华西医科大学口腔医学院材料研究室
[2] 四川大学原子核科学技术研究所
来源：
关键词：
羟基磷灰石涂层；钛基体；种植材料；微观结构；离子束技术;
D O I：
暂无
中图分类号：
TB39 [其他材料];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
采用Ａｒ＋离子束溅射沉积技术在钛基体上沉积羟基磷灰石薄膜涂层，Ａｒ＋离子束的能量分别为０．９ｋｅＶ、１．２ｋｅＶ和１．５ｋｅＶ。利用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、扫描电镜（ＳＥＭ）、透射电镜（ＴＥＭ）和红外光谱（ＦＴＩＲ）等检测方法，对制备的羟基磷灰石薄膜涂层进行了表征。Ｘ射线衍射和透射电镜结果表明该薄膜涂层为非晶态；红外光谱中无羟基（ＯＨ－）特征峰存在，ＣＯ＝３根吸收峰的出现说明制备过程中会引入ＣＯ＝３根；扫描电镜观察结果显示出制备的羟基磷灰石薄膜涂层致密、均匀；划痕实验结果表明涂层与钛基体间的结合紧密。以上结果表明，离子束溅射沉积技术可以用于沉积羟基磷灰石薄膜涂层钛种植材料，制备修复体和金属种植体
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