用于红外焦平面的微透镜阵列单片制备技术

被引：4

作者：

麦志洪，易新建，赵兴荣，郝建华

机构：

[1] 华中理工大学光电子工程系

来源：

关键词：

红外焦平面；硅微透镜阵列；单片式;

D O I：

10.13245/j.hust.1996.07.024

中图分类号：

TP333.4 [光存贮器及其驱动器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

提出了离子束刻蚀制备微透镜阵列的工艺原理；研究了球面型光致抗蚀剂掩膜的形成过程以及硅微透镜离子束刻蚀的实验条件．表面探针测量及扫描电子显微镜（ＳＥＭ）实验证明了该技术可在较低的衬底温度下（低于２００℃）有效地制备出球面型微透镜，并用表面探针测量确定了硅微透镜的尺寸．

引用

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