基于差分进化算法的光刻机匹配方法

被引：9

作者：

茅言杰 ^{[1
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李思坤 ^{[1
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王向朝 ^{[1
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韦亚一 ^{[3
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机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室

[2] 中国科学院大学材料与光电研究中心

[3] 中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心

来源：

光学学报 | 2019年 / 39卷 / 12期

关键词：

光学设计; 光学制造; 光刻; 光刻机匹配; 光源优化; 差分进化;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜]; TP18 [人工智能理论]; TN405 [制造工艺];

学科分类号：

1401 ; 081104 ; 0812 ; 0835 ; 1405 ; 080903 ;

摘要：

提出一种基于差分进化算法和微反射镜阵列(MMA)光源模型的光刻机匹配方法。加入MMA光源模型,利用差分进化算法优化微反射镜光斑分布,以实现光刻机匹配。与通常用于自由照明系统的光刻机匹配方法相比,本方法能直接优化MMA参数,有效减小了在MMA产生照明光源的过程中出现的匹配误差。以一维线空掩模为匹配目标,分别对四极照明和自由照明光源进行匹配,匹配后关键尺寸误差的均方根(RMS)下降了80%以上,与基于遗传算法和粒子群优化算法相比,本方法的匹配结果更优并具有更快的收敛速度。此外,本方法还可以有效地控制生成光源的光瞳填充比例,使匹配前后光源的光瞳填充比例保持一致。

引用

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