氯离子对酸性镀铜电沉积的影响

被引：15

作者：

刘烈炜

吴曲勇

卢波兰

杨志强

机构：

[1] 华中科技大学化学系

[2] 武汉材料保护研究所湖北武汉

[3] 湖北武汉

来源：

电镀与环保 | 2004年 / 05期

关键词：

氯离子; 酸性镀铜; 旋转圆盘电极; 交流阻抗; 原子力显微镜;

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ153 [电镀工业];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

旋转圆盘电极动电位扫描 (RRDE)、交流阻抗 (EIS)、原子力显微镜 (AFM )等方法研究氯离子与添加剂AQ对酸性镀铜电沉积过程的影响 ,从沉积机理的角度解释氯离子必不可少的原因。结果表明 ,加入的氯离子改变了吸附络合物的放电形式 ,表现在氯离子通过离子桥机理形成三维网状结构的 [Cl…AQCu(I)…Cl]放电以阻碍整个放电过程 ,增加反应电阻 ,从而使镀层表现出很好的性能

引用

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共 5 条

[1] 酞菁染料与氯离子协同效应在酸性镀铜中的作用 [J].