厚二氧化硅光波导薄膜制备及其特性分析

被引：12

作者：

娄丽芳

盛钟延

姚奎鸿

肖丙刚

何赛灵

机构：

[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心,浙江工程学院材料工程中心,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心杭州,杭州,杭州,杭州,杭州

来源：

光学学报 | 2004年 / 01期

关键词：

导波与光纤光学; 平面光波导; 等离子体增强化学气相沉积; 二氧化硅薄膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

以硅烷和氧化二氮作为反应气体 ,采用等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)技术 ,不使用掺杂 ,在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的二氧化硅薄膜。研究了薄膜折射率和淀积速率与工艺参量之间的关系 ,通过棱镜耦合仪、傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜等测试手段 ,分析了薄膜的结构和光学特性。结果表明 ,实验能快速生长厚二氧化硅薄膜 ,薄膜表面平整 ,颗粒度均匀 ,同时薄膜具有折射率精确可控和红外透射性能好的特点 ,非常适合制作光波导器件。

引用

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页数：5

共 8 条

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