光刻机照明光场均匀性高精度校正方法研究

被引：9

作者：

程伟林 ^{[1
,2
]}

张方 ^{[1
]}

林栋梁 ^{[1
,2
]}

曾爱军 ^{[1
,2
]}

杨宝喜 ^{[1
,2
]}

黄惠杰 ^{[1
,2
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室

[2] 中国科学院大学

来源：

光学学报 | 2018年 / 38卷 / 07期

关键词：

光数据存储; 光刻机; 照明系统; 均匀性校正;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

提出了应用于光刻机照明系统照明光场均匀性的高精度校正方法,该方法通过优化手指阵列式均匀性校正器中校正手指前端的形状及其排布方式来提高校正能力和精度。仿真结果表明:当校正手指错开排布时,手指阵列式均匀性校正器的校正精度优于0.2%;当校正手指的前端有倒斜角且双层错开排布时,手指阵列式均匀性校正器的校正精度优于0.16%,比常规手指阵列式均匀性校正器的校正精度提高约一倍。

引用

页码：262 / 271

页数：10

共 11 条

[1] 光刻机光瞳整形衍射光学元件远场多参数检测方法 [J].

胡中华 ;

朱菁 ;

杨宝喜 ;

彭雪峰 ;

曾爱军 ;

黄惠杰 .

中国激光, 2013, 40 (09) :172-176

[2] 用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计 [J].

胡中华 ;

杨宝喜 ;

朱菁 ;

肖艳芬 ;

曾爱军 ;

黄惠杰 .

中国激光, 2013, 40 (06) :313-317

[3] 一种用于减少相位突变点的衍射光学元件改进设计方法 [J].

吕彦飞 ;

董渊 ;

李述涛 ;

李青松 ;

金光勇 ;

张喜和 .

光学学报, 2012, 32 (05) :33-36

[4] 投影光刻离轴照明用衍射光学元件的矢量分析 [J].

张巍 ;

巩岩 .

光学学报, 2011, 31 (10) :33-38

[5] 积分棒在步进扫描投影光刻系统中的应用附视频 [J].

郭立萍 ;

黄惠杰 ;

王向朝 .

光子学报, 2006, (07) :981-985

[6]

Analysis of illumination pupil filling ellipticity for critical dimensions control in photolithography[J]. 郭立萍,王向朝,黄惠杰.Chinese Optics Letters. 2006(04)

[7]

一种照明均匀性补偿装置及具有该装置的光刻机[P]. 曹昇炜.中国专利:CN101807009A,2010-08-18

[8]

Programmable uniformity correction by using plug-in finger arrays in advanced lithography system[J] . Weilin Cheng,Yunbo Zhang,Jing Zhu,Baoxi Yang,Aijun Zeng,Huijie Huang.Optics Communications . 2017

[9] Critical dimension control using ultrashort laser for improving wafer critical dimension uniformity [J].

Avizemer, Dan ;

Sharoni, Ofir ;

Oshemkov, Sergey ;

Cohen, Avi ;

Dayan, Asaf ;

Khurana, Ranjan ;

Kewley, Dave .

JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2015, 14 (03)

[10] Analytical expression for impact of linewidth roughness on critical dimension uniformity [J].

Mack, Chris A. .

JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2014, 13 (02)

← 1 2 →