接触式大型非球面镜面形测量中测量点分布的确定

被引：10

作者：

李杰 ^{[1
,2
]}

伍凡 ^{[1
]}

吴时彬 ^{[1
]}

匡龙 ^{[1
]}

林常青 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国科学院光电技术研究所

[2] 中国科学院研究生院

来源：

光学精密工程 | 2012年 / 04期

关键词：

光学面形检测; 非球面; 接触式测量; 测量误差; Zernike多项式;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

为准确有效地检测大型非球面光学元件的面形,研究了接触式测量光学元件的测量点分布方式。使用不同密度的径向分布及均匀分布的测量点分别对以不同Zernike多项式表示的面形偏差进行采样,然后计算采样所得面形相对给定面形PV值及RMS值的最大相对误差,并对计算结果进行了分析。对1.8m抛物面镜面形实测结果表明:在镜面加工的成型及粗磨阶段,由于面形偏差主要呈旋转对称分布,低密度径向分布测量点即可满足继续加工的检测需求;在精磨及初抛阶段,面形偏差主要为像散或其它非对称面形偏差,测量点均匀分布是提升测量精度的有效手段。此分析方法可以指导测量点的排布方式,从而确保由测量点分布引入的测量误差小于镜面本身面形误差的1/5,提高检测效率。

引用

页码：727 / 732

页数：6

共 8 条

[1] 共光路径向剪切干涉仪的设计 [J].