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PAN基炭膜形成过程中表面元素状态的分析
被引:3
作者:
赵根祥
贾世军
钱树安
冯大明
机构:
[1] 中国科学院山西煤炭化学研究所
[2] 北京理工大学化工与材料学院
来源:
关键词:
PAN基炭膜;
形成过程;
碳、氧和氮的状态;
XPS测量;
D O I:
暂无
中图分类号:
O657.6 [];
学科分类号:
摘要:
用X射线光电子能谱(XPS)技术分析了由PAN(聚丙烯腈)薄膜所制得的炭膜中碳、氮和氧三种元素的结合状态。在PAN原膜中C1s峰、N1s峰和O1s峰的结合能分别为284.6ev、399.4ev和531.75ev。在整个热解过程中,样品中的C、N和O结构的功能团和转变的变化已被测定出。随着热解温度的提高,样品表面存在着不同化学状态的碳和不同形式的含氧基因,以及由单一氨结构转变为更加稳定地不同化学态的氮结构的形式。而且,在210℃氧化热解后样品表面的碳含量和氧及氮的含量分别降低20%和增加6%及14%;在氮气流中氧化热解后的样品随热解炭化温度的增加其表面的氮含量一直处于下降状态,在N/C比值也随炭化热解温度的增加而减小的同时,对样品在不同温度下所得到的C1s、O1s和N1s峰进行了曲线拟合分峰处理和所得实验结果进行了推理性的讨论。
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