不同灌水下限对日光温室黄瓜生长指标的影响

被引：24

作者：

牛勇 ^{[1
]}

刘洪禄 ^{[2
]}

吴文勇 ^{[2
]}

陈丽华 ^{[1
]}

机构：

[1] 北京林业大学

[2] 北京市水利科学研究所

来源：

灌溉排水学报 | 2009年 / 28卷 / 03期

关键词：

灌水下限; 品质; 保护性酶; 光合特性; 根系;

D O I：

10.13522/j.cnki.ggps.2009.03.037

中图分类号：

S642.2 [黄瓜]; S626 [蔬菜设施园艺];

学科分类号：

090202 ;

摘要：

以日光温室黄瓜为试验材料,采用膜下滴灌,研究不同灌水下限处理对黄瓜的形态、根系、光合、保护性酶、产量、品质等造成的影响,并比较、筛选适宜灌水下限。研究结果表明在试验处理的灌水下限范围之内,随着灌水下限的增加,植株的株高差异不明显;根长密度、果实水溶性总糖含量随之减小;植株的叶面积、节点数、气孔导度、光合速率、产量、果实内的氨基酸、还原型Vc、水分含量随之均有不同程度的增加。灌水下限为85%FC的处理,其产量最高、品质最优,可以将其作为黄瓜温室膜下滴灌栽培的适宜灌水下限。

引用

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页数：4

共 7 条

[1]

植物生理生化实验原理和技术.[M].李合生主编;.高等教育出版社.2000,

[2] 日光温室黄瓜滴灌灌溉制度研究 [J].