龋病发病机理的生物电化学理论(电化学人工龋模型的实验研究)

被引:16
作者
黄力子
唐林
徐如生
王成龙
李刚
李振钢
机构
[1] 第四军医大学口腔医学院
关键词
龋齿,发病机理,生物电化学;
D O I
暂无
中图分类号
R781.1 [龋齿];
学科分类号
摘要
为进一步证实生物电和电化学机理在龋病发病中的作用,作者以电化学方法制造了人工龋模型的实验。结果证明:用电化学方法可制造出深达牙本质层且更加近似自然龋的类龋洞。这种类龋洞用现有化学方法是不能从牙釉质表面制造出来的。本研究为龋病发病的生物电化学理论,提供了依据。
引用
收藏
页码:35 / 37
页数:3
相关论文
共 2 条
[1]   牙冠表面电阻分布与龋病的关系 [J].
刘峰 ;
曹志中 ;
黄力子 ;
钟力生 ;
徐传骧 .
中华口腔医学杂志, 1993, (01) :47-49
[2]  
牙病预防学[M]. 人民卫生出版社 , 姜元川 编著, 1958