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光栅成像光谱仪同心光学系统研究
被引:15
作者
:
黄元申
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0
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0
机构:
上海理工大学上海光学仪器研究所
黄元申
倪争技
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机构:
上海理工大学上海光学仪器研究所
倪争技
庄松林
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机构:
上海理工大学上海光学仪器研究所
庄松林
机构
:
[1]
上海理工大学上海光学仪器研究所
来源
:
光学仪器
|
2005年
/ 06期
关键词
:
应用光学;
成像光谱仪;
同心光学系统;
远心条件;
波像差;
光瞳;
光栅;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TH744.1 [];
学科分类号
:
摘要
:
详细讨论了光栅同心光谱仪的波像差表达式。当入射光束与出射光束平行时,单色同心光学系统空间任一点成几何理想像。揭示了光栅同心光谱仪满足远心条件时,光瞳像差仅有三级球差和场曲及高级剩余像差,系统需要校正场曲和球差。光栅必须放在前后光学部分的焦平面上,满足远心条件。最佳光栅刻线是等间隔平行线。介绍了两种典型同心光学系统的结构和特性。
引用
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页码:38 / 42
页数:5
相关论文
共 2 条
[1]
同心三反射镜光学系统研究
[J].
黄元申
论文数:
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机构:
上海理工大学上海光学仪器研究所
黄元申
;
倪争技
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机构:
上海理工大学上海光学仪器研究所
倪争技
.
光学仪器,
2005,
(02)
:42
-46
[2]
Annular field systems and the future of optical microlithography .2 Offner A. Optical Engineering . 1987
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共 2 条
[1]
同心三反射镜光学系统研究
[J].
黄元申
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机构:
上海理工大学上海光学仪器研究所
黄元申
;
倪争技
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机构:
上海理工大学上海光学仪器研究所
倪争技
.
光学仪器,
2005,
(02)
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[2]
Annular field systems and the future of optical microlithography .2 Offner A. Optical Engineering . 1987
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