193nm浸入式光刻技术独树一帜

被引：7

作者：

翁寿松

机构：

[1] 无锡市罗特电子技术有限公司江苏无锡

来源：

电子工业专用设备 | 2005年 / 07期

关键词：

浸入式光刻技术; 193nm光刻机; 193nm光刻胶;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305 [半导体器件制造工艺及设备];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

介绍了193nm浸入式光刻机和193nm光刻胶的最新发展动态以及下一代193nm浸入式光刻机。

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共 1 条

[1] 193nm光刻技术延伸方法 [J].

翁寿松 .

电子工业专用设备, 2004, (11) :14-16