氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究

被引：6

作者：

龚力

刘笑

谢方艳

张卫红

陈建

机构：

[1] 中山大学测试中心

来源：

分析测试学报 | 2009年 / 01期

基金：

广东省自然科学基金;

关键词：

氧化钨; 纳米线; 光电子能谱; 氩离子轰击;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB383.1 [];

学科分类号：

070205 ; 080501 ; 1406 ;

摘要：

利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,原位研究了氩离子轰击对三氧化钨纳米线薄膜的还原作用,钨的价态由+6价逐渐被还原为0价,并获得了具有多价态结构的氧化钨薄膜。通过对实验结果的分析,定性描述了氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的原理,认为择优溅射在整个还原过程中起着关键作用。

引用

页码：22 / 26

页数：5

共 3 条

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