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离子束增强沉积工艺参数对Cr-N膜层组织结构的影响
被引：3
作者：
唐宾
刘道新
胡奈赛
何家文
机构：
[1] 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室!西安
来源：
关键词：
离子束增强沉积;
镀层;
Cr-N;
组织结构;
D O I：
暂无
中图分类号：
TG174.444 [真空镀与气相镀法];
学科分类号：
摘要：
利用离子束增强沉积技术， 在 Ｓｉ （１１１） 和 Ｇ Ｃｒ１５ 轴承钢基体上沉积 Ｃｒ Ｎ 镀层研究氮分压、 Ｎ＋ ＋ Ｎ＋２ 离子轰击能量和 Ｎｉｏｎｓ Ｃｒ ａｔｏｍｓ 到达比对镀层组织结构的影响结果表明， Ｃｒ Ｎ 镀层组织对氮分压敏感， 随着氮分压的增加， 镀层中 Ｃｒ Ｎ 组份增加， 金属 Ｃｒ 及 Ｃｒ２ Ｎ 组份减少； 随着氮离子轰击能量的增加， Ｃｒ Ｎ 镀层中 Ｃｒ Ｎ （２００） 择优生长； 但当 Ｎｉｏｎｓ Ｃｒ ａｔｏｍｓ 比从１４５ ×１０ － ２ 增至５８７ ×１０ － ２ 时， 镀层中 Ｃｒ Ｎ 组份非但没有增多， 反而使镀层中的 Ｃｒ 以 Ｃｒ２ Ｏ３ 形态存在
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