投影光刻物镜倍率的公差分析与补偿

被引：18

作者：

许伟才 ^{[1
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]}

黄玮 ^{[1
]}

杨旺 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室

[2] 中国科学院研究生院

来源：

光学学报 | 2011年 / 31卷 / 11期

关键词：

光学设计; 倍率; 公差分析; 投影光刻物镜;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器]; TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

0803 ; 1401 ;

摘要：

为满足严格的套刻需求,双远心结构的投影光刻物镜需要选择恰当的元件移动来进行倍率的补偿和调节。提出了一种简单而实用的方法来进行倍率的公差分析。该方法利用商业优化设计软件和有限差分算法计算了多项公差对物镜倍率的敏感程度,同时结合公差对系统波像差的敏感度选择最佳的倍率补偿元件。利用以上方法,对一台双远心、工作波长193nm以及数值孔径0.75的投影光刻物镜进行了倍率的公差分析和补偿器优选。结果显示,系统较好地实现了±50×10-6的倍率调节功能,而系统波像差劣化程度均方根值小于1.5nm。

引用

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