制备超薄多层膜的自动转速控厚法

被引：2

作者：

祝国龙

冯仕猛

邵建达

汤兆胜

易葵

范正修

机构：

[1] 中国科学院上海光机所

[2] 中国科学院上海光机所上海

[3] 上海

来源：

中国激光 | 2001年 / 11期

关键词：

超薄多层膜; 膜厚精度; 小角X射线衍射;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

在转速控厚法的基础上 ,排除了射频溅射的电磁干扰 ,实现了自动转速控厚法。用这种方法镀制超薄多层膜时 ,可以实时记录下镀制每层膜的沉积时间、自动切换转速、完成设定周期后自动停止转动。自动转速控厚法与转速控厚法相比 ,明显降低了多层膜制备的劳动强度 ,提高了多层膜制备的成品率和监控精度。而且将在镀制复杂膜系多层膜时 ,具有更加明显的优势

引用

页码：1027 / 1031

页数：5

共 8 条

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