PLD制备铁电薄膜工艺参数的研究现状

被引：6

作者：

赵亚凡 ^{[1
]}

陈传忠 ^{[2
]}

宋明大 ^{[3
]}

机构：

[1] 山东建筑大学理学院

[2] 山东大学材料科学与工程学院

[3] 山东大学机械工程学院

来源：

红外与激光工程 | 2007年 / 02期

关键词：

脉冲激光沉积; 铁电薄膜; 工艺参数;

D O I：

暂无

中图分类号：

TM22 [强性介质和压电介质];

学科分类号：

0805 ; 080502 ; 080801 ;

摘要：

铁电薄膜在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用(前景)。脉冲激光沉积(PLD)在铁电薄膜制备方面显示出独特的优越性。介绍了PLD的原理、特点;综述了PLD工艺参数,包括衬底温度、氧气压力、靶材结构与成分、能量密度、靶基距离、缓冲膜以及退火工艺等的研究现状;展望了PLD制备铁电薄膜的应用前景。

引用

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页数：5