知识产权保护对外商直接投资溢出效应影响的研究——基于中国高技术产业的实证分析

被引：12

作者：

李平

随洪光

机构：

[1] 山东理工大学经济学院

来源：

经济评论 | 2007年 / 06期

关键词：

外商直接投资; 知识产权保护; 技术溢出; 水平溢出; 垂直溢出;

D O I：

10.19361/j.er.2007.06.012

中图分类号：

F204 [科学技术管理];

学科分类号：

摘要：

知识产权保护是影响外商直接投资水平和垂直溢出效应的重要因素,尤其是《与贸易有关的知识产权协议》签订以来,知识产权保护对外商直接投资溢出效应的作用更是日益显著。运用面板数据,对中国高技术产业1996-2005年15个行业的分析显示:高技术产业中的外商直接投资对内资企业的技术进步具有显著的水平和垂直溢出效应,其中垂直溢出效应较水平溢出效应更为显著;现阶段的知识产权保护抑制了高技术产业中外商直接投资的水平和垂直溢出效应。上述分析表明:知识产权保护应以促进国内研发为出发点,兼顾外商直接投资的溢出效应。

引用

页码：73 / 77

页数：5

共 6 条

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