影响磁控溅射膜质量的工艺因素

用磁控溅射新工艺取代传统的蒸发工艺，制造多种金属膜，用于大规模集成电路生产，改善了器件的性能，提高了成品率和可靠性。对多种金属膜作了简要结构性能分析，提出了其注意事项。