铈离子对镍电沉积层择优取向的影响

被引:8
作者
黄令,许书楷,汤皎宁,杨防祖,周绍民
机构
[1] 厦门大学化学系
关键词
电沉积镍,择优取向,X射线衍射,循环伏安法;
D O I
暂无
中图分类号
O614.332 [];
学科分类号
070301 ; 081704 ;
摘要
铈离子对镍电沉积层择优取向的影响黄令,许书楷,汤皎宁,杨防祖,周绍民(厦门大学化学系,厦门,361005)关键词电沉积镍,择优取向,X射线衍射,循环伏安法在金属电沉积过程中,有相当数量的晶粒在沉积层中表现出某种共同的取向特征。这种现象称为织构,又称择...
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页码:1782 / 1784
页数:3
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共 1 条
[1]  
电沉积条件对锌镀层织构的影响[J]. 许书楷,杨防祖,周绍民.电化学. 1995(04)