学术探索
学术期刊
新闻热点
数据分析
智能评审
立即登录
铈离子对镍电沉积层择优取向的影响
被引:8
作者
:
黄令,许书楷,汤皎宁,杨防祖,周绍民
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
厦门大学化学系
黄令,许书楷,汤皎宁,杨防祖,周绍民
机构
:
[1]
厦门大学化学系
来源
:
高等学校化学学报
|
1996年
/ 11期
关键词
:
电沉积镍,择优取向,X射线衍射,循环伏安法;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O614.332 [];
学科分类号
:
070301 ;
081704 ;
摘要
:
铈离子对镍电沉积层择优取向的影响黄令,许书楷,汤皎宁,杨防祖,周绍民(厦门大学化学系,厦门,361005)关键词电沉积镍,择优取向,X射线衍射,循环伏安法在金属电沉积过程中,有相当数量的晶粒在沉积层中表现出某种共同的取向特征。这种现象称为织构,又称择...
引用
收藏
页码:1782 / 1784
页数:3
相关论文
共 1 条
[1]
电沉积条件对锌镀层织构的影响[J]. 许书楷,杨防祖,周绍民.电化学. 1995(04)
←
1
→
共 1 条
[1]
电沉积条件对锌镀层织构的影响[J]. 许书楷,杨防祖,周绍民.电化学. 1995(04)
←
1
→