超宽带减反射膜的设计和制备

被引：21

作者：

郑臻荣 ^{[1
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顾培夫 ^{[1
]}

陈海星 ^{[2
]}

陶占辉 ^{[2
]}

艾曼灵 ^{[2
]}

张梅骄 ^{[2
]}

唐晋发 ^{[1
,2
]}

机构：

[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室

[2] 杭州科汀光学技术有限公司

来源：

光学学报 | 2009年 / 29卷 / 07期

关键词：

薄膜; 减反射膜; 超宽带宽; 初始结构; 优化;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

设计了400～900 nm波段上的超宽带减反射膜,在410～850 nm范围内的平均残余反射率设计值约为0.2%,在设计的全波段上约为0.24%。讨论了初始膜系结构的选择原则,分析了带宽、膜层折射率差、最外层折射率和膜层总厚度等因素对宽带减反射特性的影响。对特定的带宽,增加两种薄膜材料的折射率差和选择尽可能低的最外层折射率对获得优良的减反射特性是非常重要的。实验制备了K9玻璃上TiO2/MgF2两种材料组成的8层结构的超宽带减反射膜,实测结果表明,在带宽520 nm范围内的平均残余反射率约为0.44%,说明用二种材料设计超宽带减反射膜是成功的,对垂直入射的减反射膜,多种材料的膜系并不比两种材料更具优越性。

引用

页码：2026 / 2029

页数：4

共 10 条

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