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9—46keV电子引起的Ni的K壳层电离截面
被引:1
作者
:
何福庆
论文数:
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0
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0
机构:
四川大学原子核科学技术研究所
何福庆
龙先灌
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机构:
四川大学原子核科学技术研究所
龙先灌
彭秀峰
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机构:
四川大学原子核科学技术研究所
彭秀峰
刘慢天
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机构:
四川大学原子核科学技术研究所
刘慢天
机构
:
[1]
四川大学原子核科学技术研究所
来源
:
原子与分子物理学报
|
1994年
/ 02期
关键词
:
Electron impact;
Characteristic X-ray;
Ionization cross section;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O562.4 [原子间的作用、激发与电离];
学科分类号
:
摘要
:
用Si(Li)探测器测量薄Ni靶在9—46KcV的电子轰击下产生的K壳层特征X射线,以确定其K壳层电子的电离截面。测量结果与前人的实验和理论计算以及经验公式的计算结果作了比较。
引用
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页码:171 / 175
页数:5
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