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射频等离子沉积聚硅氧烷薄膜的XPS研究
被引：5
作者：
齐尚奎
吕晋军
张平余
杨生荣
王云飞
王敬宜
机构：
[1] 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室!兰州,中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室!兰州,中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室!兰州,中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室!兰州,兰州物
来源：
关键词：
原子氧;
CVD;
有机聚硅氧烷;
XPS;
D O I：
暂无
中图分类号：
O634 [元素有机聚合物];
学科分类号：
070305 ;
080501 ;
081704 ;
摘要：
用CVD方法在一台射频放电等离子体聚合实验装置内成功地制备了沉积聚酯薄膜基底有机聚硅氧烷薄膜。该薄膜在有原子氧模拟实验装置内具有抗原子氧剥蚀的良好性能 ,对航天器等材料表面起到防护作用。有机聚硅氧烷薄膜与等离子体沉积时氧的泄露量有关 ,且沉积密度经AFM检测有较大的差异。并用XPS较详细考察了不同工艺制备的聚硅氧烷官能团构成和表面状态 ,以期得到优良的防剥蚀膜
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页码：459 / 464
页数：6
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