突破光学衍射极限,发展纳米光学和光子学

被引：18

作者：

干福熹 ^{[1
,2
]}

王阳 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所

[2] 复旦大学信息科学与工程学院

来源：

光学学报 | 2011年 / 31卷 / 09期

关键词：

纳米光学; 纳米光子学; 超分辨率; 光信息存储; 光刻;

D O I：

暂无

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

信息技术已经进入纳米时代,纳米光学和光子学正是为满足快速和高密度信息技术的需求而产生、发展的。先进的纳米光学和光子学器件应该是高速、高分辨率和高集成的,形成各类光学和光子学芯片和盘片。由于器件最小特征尺寸和加工分辨率受限于光的衍射极限,现有技术已接近实用化技术的理论极限并且成本很高,只有突破光学衍射极限才能进一步发展纳米光学和光子学。在光的远场和近场应用超分辨率技术,是当前重要的前沿课题,它们的应用主要集中于信息技术领域,具有代表性的是纳米信息存储和光刻中的光学超分辨率技术等。

引用

页码：57 / 65

页数：9

共 5 条

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