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相位掩模法制造光纤光栅的理论分析
被引：2
作者：
邹林森
雷非
唐仁杰
刘贤炳
胡涛
机构：
[1] 武汉邮电科学研究院
来源：
关键词：
相位掩模法,光纤光栅,光场强;
D O I：
10.13756/j.gtxyj.1997.02.011
中图分类号：
NT253 [];
学科分类号：
07 ;
摘要：
推导出了用相位掩模法制造光纤光栅的理论根据，得出了相位掩模法中常见的一些有用公式，并报道了实验结果。
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