NiO/γ-Al2O3体系分散态研究

被引：1

作者：

林承志

机构：

[1] 沈阳师范学院化学系

来源：

关键词：

单层分散；X射线衍射；NiO；γ－Al2O3;

D O I：

暂无

中图分类号：

O647 [表面现象的物理化学];

学科分类号：

摘要：

对不同温度下焙烧的ＮｉＯ／γ－Ａｌ２Ｏ３体系的ＸＲＤ研究表明，ＮｉＯ在γ－Ａｌ２Ｏ３表面分散阈值随温度升高而增加．在低于５５０℃时，呈单层分散状态，而在较高温度时（７００℃以上），有一定量的ＮｉＯ进入体相，此时ＮｉＯ／γ－Ａｌ２Ｏ３体系为ＮｉＯ晶相、分散相和体相三相混合体

引用

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